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        產品搜索:

        產品名稱: mda-400紫外光刻機
        產品介紹:
        品牌:韓國MIDAS
        型號:MDA-400M
        產地:韓國
        價格:面議
        產品描述:
        又名:掩模對準曝光機,曝光系統,光刻系統,光刻機,紫外曝光機等;
            MIDAS為全球領先的半導體設備供應商,多年來致力于掩模對準光刻機和勻膠機研發與生產,并且廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域;該公司是目前世界上最早將光刻機商品化的公司之一,擁有雄厚的技術研發力量和設備生產能力;并且其設備被眾多著名企業、研發中心、研究所和高校所采用;以優秀的技術、精湛的工藝和良好的服務,贏得了用戶的青睞。
            此型號光刻機是所有進口設備中性能價格比最高的型號,達到歐美品牌的對準精度,CCD顯示屏對準更為方便,液晶觸摸屏操作,采用歐司朗紫外燈,壽命長。整機效果皮實耐用。
        主要特點:
        - 光源強度可控;
        - 紫外曝光,深紫外曝光(Option);
        - 系統控制:手動、半自動和全自動控制;
        - 曝光模式:真空接觸模式(接觸力可調),Proximity接近模式, 投影模式;
        - 真空吸盤范圍可調;
        - 專利技術:可雙面對準,可雙面光刻,具有IR和CCD模式
        - 兩個CCD顯微鏡系統,最大放大1000倍,顯示屏直接調節,比傳統目鏡對準更方便快捷,易于操作。
        - 特殊的基底卡盤可定做;
        - 具有楔形補償功能;

        技術參數:
        - 基片尺寸:4、6、8、12、25英寸,其他尺寸可定制;
        - 光束均勻性:<±3%;
        - 曝光時間可調范圍:0.1 to 999.9秒;
        - 對準精度:0.6-1微米
        - 分辨率:1微米;
        - 光束輸出強度:15-25mW/cm2;


        項目  技術規格 
        曝光系統(Exposure System)
         
        MDA-400M型
        光源功率 350W UV Exposure Light source with Power supply
        分辨率 - Vacuum Contact : 1um ( Thin PR@Si Wafer )
        - Hard Contact : 1um
        - Soft contact : 2um
        - 20um Proximity: 5um
        最大光束尺寸 4.25×4.25 inch
        光束均勻性 ≤ ±3% (4inch standard)
        光束強度 15~20mW/cm2 (365nm Intensity)
        曝光時間可調整 0.1 to 999.9 sec
        對準系統(Alignment System) 對準精度 1um
        對準間隙 手動調節(數字顯示)
        光刻模式 真空, 硬接觸, 軟接觸,漸進(Proximity)
        卡盤水平調節 楔形錯誤補償Wedge Error Compensation
        真空卡盤移動 X, Y: 10 mm, Theta: ±5°
        Z向移動范圍 10mm
        接近調整步幅 1um
        樣品(Sample) 基底 Substrate 2, 3, 4 inch
        掩模板尺寸 4 and 5 inch
        Utilities 真空 Vacuum < -200 mbar (系統包含真空泵)
        壓縮空氣 CDA > 5Kg/cm2
        氮氣 N2 >3Kg/cm2
        電源 Electricity 220V, 15A, 1Phase
        顯微鏡及顯示器
        CCD and Monitor
        Dual CCD zoom microscope and LCD (17inch) monitor; Magnification : 80x ~ 1000x;


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